来  源：国家知识产权局

近日，国家知识产权局发布《关于进一步规范专利申请文件撰写要求的业务提醒》，针对申请文件中常见的冗余内容、表述偏差等问题提出明确要求。

文件中指出，为进一步提高专利申请文件的规范性，节约申请获权程序，依据《专利审查指南》相关规定，对专利申请文件的撰写作出以下提醒：

专利申请文件的核心是其记载的技术方案,应尽量避免引入与技术方案无关的内容，尤其是说明书背景技术和附图部分。

说明书的背景技术部分应当写明对发明或者实用新型的理解、检索、审查有用的背景技术及相应文件，说明背景技术中存在的问题和缺点时应围绕技术内容开展，尽量避免引入政治、经济、文化等与技术不直接相关的信息。

对于说明书附图，建议仅在与保护范围紧密相关时引入地图。确需引入时，申请人应使用标准地图，例如通过自然资源部网站“标准地图服务系统”（http://bzdt.ch.mnr.gov.cn/）获取，以确保地图的准确性、合法性和权威性。以标准地图为基础制作附图时，应遵守相关法律法规和部门规章。

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